纳米图案硅印章
简介:

纳米图案硅印章由在单晶硅基板上形成图案的纳米级纹理表面组成。通过反应离子蚀刻,具有梯形横截面的线性凹槽被蚀刻到基板表面,类似于传统的光栅。蚀刻工艺可为这些凹槽提供不同的周期和深度规格,以及更复杂的图案,例如晶格。II-VI LightSmyth™ 纳米图案硅印章是光学和光子学、生物学、化学、纳米压印和微流体领域的纳米光子学研究应用的理想选择。

无相关文档
产品详情
  • 纳米级纹理凹槽表面
  • 可变凹槽周期和凹槽深度
  • 纳米光子学研究应用的理想选择


品编

周期 (nm)

尺寸 (mm)

线条宽度(nm)

槽深(nm)

单价(元)

16-855

855

12.50 x 12.50

425

200 ±30

5100

16-856

855

25.00 x 25.00

425

200 ±30

10200

16-857

139

12.50 x 12.50

50

50 ±7.5

6200

16-858

139

25.00 x 25.00

50

50 ±7.5

20300





产品留言
标题
联系人
联系电话
内容
验证码
点击换一张
注:1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!