近红外(NIR)线性偏振膜

近红外(NIR)线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成，特别适合从可见光到近红外(400-2200nm)的成像应用。该偏振聚合物薄膜的平均透射率为39%，在760和2200nm的入射随机偏振光下的偏振效率大于99.6%。多种矩形尺寸可用于容纳从光束直径较小的低功率NIR激光器到较大LED光束的所有光源。近红外(NIR)线性偏振膜用于工业成像和实验室应用，即减低输出近红外激光器和LED的强度，或减少近红外光电检测器记录的图像中的眩光。偏振轴标记在偏振聚合物膜的保护性挡板上。

注意:在第一次使用前，请移除保护罩。

• 特别适合NIR偏振应用
•  800-2200nm下的消光比>400:1
• 在各种波长范围内均拥有高效率
• 采用耐用的聚合物基片
• 消光比:407:1(Average@800-2200nm)
• 波长范围(nm):400-2200
• 厚度(mm):0.50
• 涂层:Uncoated
• 透射率(%):Single:29(400-760 nm),39(761-2200 nm)
• Crossed:0.02(400-760 nm),0.11(761-2200 nm)
• Polarization Efficiency(%):99.83@400-760nm 99.63@761-2200nm
• 构造:Polarizing Film
• 基底:Polymer Film on TAC
• 工作温度(°C):-55 to+85(3 hours)
• Transmission,Single(%):29@400-760nm 39@761-2200nm
• Transmission,Crossed(%):0.02@400-760nm 0.11@761-2200nm
• 注意:Protective Film on Both Sides

高对比度近红外（NIR）偏光膜

高对比度近红外（NIR）偏光膜在可见光和近红外光谱中可提供出色的对比度，是传统玻璃偏光片的经济型替代品。这些偏光膜设计用于在工业成像应用中通过近红外光电探测器帮助管理杂散光和减少眩光。这些偏光膜在近红外波长下的对比度为1,000:1，在可见光下的对比度为10,000:1，因此具有优异的宽带性能。高对比度近红外（NIR）偏光膜在415-1600nm之间具有高透过率，并且可以很轻松进行尺寸切割。这些偏振膜是用于传感、近红外成像和短波红外应用的理想选择。

• 在700Nm-1600nm之间的消光比>1,000:1
• 是近红外成像应用的理想选择
• 是传统玻璃偏振片的经济型替代品
• 另有超宽带近红外偏振膜可供选择
• 涂层:Uncoated
• 消光比:>1000:1(700nm-1600nm)>10000:1 AVG(400nm-800nm)
• 基底:Polymer Film on TAC
• 偏振传输(%):532nm:65830nm:701550nm:80S
• 偏振传输(%):532nm:0.002830nm:0.041550nm:0.1
• 表面质量:80-50
• 厚度(mm):0.50(Nominal)构造:Polarizing Film
• 注意:Outer 0.3mm edge is not functional due to loss of transparency during laser cutting
• 波长范围(nm):415-1600Heat Resistance(°C x Hours):85 x 500(dry)
• 耐寒性（°C x小时）:-40 x 500
• 环境承受能力:DIN ISO 9022-2-10-07;DIN ISO 9022-2-11-05;DIN ISO 9022-2-12-07;DIN ISO 9022-2-14-05;
• 存储温度(°C):15-25

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